RIM-Systemtechnik

Für das Verfahren des Reaction Injection Mouldings (RIM), bei dem aus der Reaktion aus zwei Ausgangskomponenten PUR-Schaum entsteht, wird spezielle RIM-Anlagentechnik benötigt. 

Die ATN verfügt in der RIM-Technologie über ein hohes Maß an Prozessverständnis und langjährige Erfahrung durch den Einsatz von ATN RIM-Anlagen in der der Automobilindustrie.

André Eichler
Global Sales Manager

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ATN RIM-Anlagen mit Elektrovolumendosierern

Beim 2K-Applikationsystem für den Bereich RIM kommt die Dosiertechnik der ATN zum Einsatz. Damit kommt ein völlig neuer Systemansatz zur Verarbeitung von PUR-Schäumen im Vergleich zu bisherigen Anwendungen am Markt zum Einsatz. Die langjährig bewährte Technik gewährleistet höchste Dosiergenauigkeit bei allen Materialmengen sowie eine prozessstabile und bedarfsgerechte Materialdosierung. Durch einen kontinuierlichen Materialfluss wird gewährleistet, dass es unabhängig von ausgeführten Applikationen, zu keinen Materialstillständen kommt und somit jederzeit optimal vorbereitete Materialien zur Verfügung stehen. 

Die ATN RIM-Anlagen ermöglichen eine hochpräzise Dosierung auch bei geringsten Schussvolumen und hohe Standzeiten bei abrasiven und gefüllten Materialien.

Aufbau und Funktion der RIM Materialzufuhr 

Die Materialversorgung des 2K-Applikationssystems ermöglicht eine kontinuierliche Beschickung der nachfolgenden Module. Ihnen stehen bei der Materialversorgung aktuell zwei Größen zur Verfügung:

  • EFE0200 für 200 L Fässer
  • EFE1000 für 1.000 L IBC

Funktionserweiterungen für RIM Materialversorgung

  • Füllstandsüberwachung
  • Rührwerk
  • Lufttrockner
  • Huckepack-System für kontinuierliche Befüllung nachfolgender Module ohne Stillstandszeiten beim Fasswechsel

Aufbau und Funktion RIM Kreislaufanlage 

Für eine optimale Erzielung der geforderten Eigenschaften bei 2K-Materialien ist die präzise Konditionierung der Komponenten eine der Grundvorrausetzungen. Diese wird durch die dauerhafte Zirkulation des Materials in der Kreislaufanlage sichergestellt.

Im ATN Produktportfolio befinden sich aktuell zwei Kreislaufmodule mit unterschiedlichen Speichergrößen (MKS-50-Serie mit 50 L Speicher und MKS-280-Serie mit 280 L Speicher). Die Kreislaufmodule zeichnen sich aus durch:

  • Kontinuierliche Materialzirkulation ohne Stillstandszeiten
  • Integrierter Wärmetauscher für kompakte Bauform
  • Dauerhafte Filtration
  • Rohrbegleitheizung
  • Geringe Geräuschentwicklung und lange Lebensdauer durch Niederdruckbereich

Funktionserweiterungen für RIM Kreislaufanlage

  • Füllstandsüberwachung
  • Rührwerk (für eine oder beide Komponenten)
  • Lufttrockner
  • Externe Temperierung
  • Redundante Bauform zur Steigerung der Prozessstabilität und zur Vermeidung von Stilllstandszeiten
  • als gekapseltes Modul realisierbar

Aufbau und Funktion RIM Dosierer 

Die elektrisch angetriebenen Volumendosierer bieten die besten Regelungs- und Dosiereigenschaften für die eingesetzten Ausgangsmaterialien. Weitere Komponenten und Aggregate wie eine zusätzliche Kühlung sind im Gesamtsystem der ATN nicht erforderlich. Durch den Einsatz des ATN-Dosierers ergibt sich der Vorteil, dass eine geringere Scher- und Druckbelastung auf das Material ausgeübt wird und es schonender gefördert wird. Somit wird eine zusätzliche Kühlung im Gesamtsystem nicht benötigt. Durch die Aufteilung in einen materialführenden Teil und einen Antriebsteil sind sie wartungsfreundlich aufgebaut.

Der Applikator wird durch die Dosierer kontinuierlich mit den konditionierten Ausgangsmaterialien (für PUR -Applikation mit Isozyanat und Polyol) versorgt. Während der Applikation realisieren die Dosierer den Druckaufbau auf bis zu 200 bar und die präzise Förderung der erforderlichen Materialmengen. Aufgrund des schlanken Designs eignen sich die Dosierer für eine unmittelbare Positionierung in der Nähe des Applikationsortes.

ATN Volumendosierer für die RIM Applikation

DosiererMaterialmenge2K-Material Schussaustragsleistung
EVD 35010 – 450 ccmmax. 190 ccm/s

Weitere Dosiergrößen sind nach Absprache möglich.

Aufbau und Funktion RIM Applikator 

Der RIM Applikator beruht auf dem Gegenstrominjektionsprinzip mit der Mischwirkung durch Auftreten turbulenter Strömungen. Während des Materialeinschusses werden die Komponenten durch Düsen (Querschnitte von 0,2 bis 1,0 mm) der vergleichsweise kleinen Mischkammer zugeführt. Durch die dabei auftretenden hohen Strömungsgeschwindigkeiten von bis zu 350 m/s prallen die Komponenten direkt aufeinander und werden homogen miteinander vermischt. Während Stillstandszeiten wird der Applikator kontinuierlich gespült. 

Für die automatisierte Applikation wird der Applikator über einen entsprechenden Flansch an einem Roboter oder Manipulator angebracht.

Manueller RIM Handling Applikator 

Für die manuelle Handhabung des Applikators steht Ihnen die Anwendung mit einfachem Griff oder mit Griff und Bedienstelle zur Verfügung. Über die Bedienstelle lassen sich bis zu 10.000 auf der Steuerung hinterlegbare Mischungsrezepturen anwählen.

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Setzen Sie Ihren Applikationsprozess mit ATN um

Die zuverlässige Applikationstechnik der ATN bietet Ihnen alle erforderlichen Komponenten für eine auftragsunabhängige Applikation. Dazu gehören Fassentleerungssysteme, Dosiersysteme, Applikationstürme, Düsenreinigungen sowie weiteres Zubehör. Die ATN ist Ihr richtiger Ansprechpartner, wenn es um die punkt- und wiederholungsgenaue Dosierung von fluiden Materialien geht. Entscheiden Sie sich für die Applikationstechnik von ATN und stellen Sie die gleichbleibende Qualität Ihrer Prozesse sicher!

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